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Ir–Ni–Ta–(B) 金属玻璃中金属–金属键特征的电子结构证据

发布日期:2025-12-09   

块材金属玻璃的形成机制在传统体系(如金属–准金属合金、氧化物玻璃)中通常可由共价键网络或赝能隙的巡游电子模型解释,但对于主要由过渡金属组成的金属玻璃,两类机制均不完全适用。近期发现的 Ir–Ni–Ta–(B) 体系具有极高的玻璃形成能力(高 Tg 与大 ΔT)[15],其电子能量如何降低仍缺乏直接证据。为了厘清过渡金属主导体系的电子结构驱动力,本研究从局域键合与巡游电子两方面入手,系统测量了 Ir–Ni–Ta–(B) 金属玻璃的芯能级及近费米能量电子态。

首先,我们观察到近费米能量电子态与单质元素相比,未见赝能隙模型预测的系统性谱重缺失(图5d),从而排除了赝能隙巡游电子图像在 Ir–Ni–Ta–(B) 中的主导作用。相比之下,在 Ir 4f、Ta 4f、Ni 2p 的芯能级中,我们发现 Ir 与 Ta 出现方向相反的显著化学位移,而 Ni 保持近元素态(图5a-c)。这一现象表明存在强烈的 Ir→Ta 电荷转移,对应局域的金属–金属极性键合,成为降低电子能量的关键因素。进一步地,结合电负性差异分析(Ir > B > Ni > Ta),我们推断 Ir–Ta 键具有类共价特征,能够在结构中形成稳定的局域网络。论文提出的结构示意模型(图5e)显示,Ir–Ta 可能构筑类似于硅酸盐玻璃或金属–准金属玻璃中网络结构的多面体簇,从而解释 Ir–Ni–Ta–(B) 体系中普遍较高的玻璃形成能力。此外,虽然在含 B 的 Ir₃₅Ni₂₀Ta₄₀B₅ 样品中观察到弱赝能隙,但其出现仅在特定成分中,说明巡游电子贡献为次要机制。

总体而言,本研究揭示:在由过渡金属主导的金属玻璃中,电荷转移驱动的金属–金属键网络而非赝能隙,是玻璃形成能力增强的主要电子因素。该成果发表在Applied Physics Letters, 126, 141903 (2025).


图 5 Ir–Ni–Ta–(B) 金属玻璃中的电荷转移、赝能隙排除及金属–金属网络示意。(a-c) Ir 4f、Ta 4f、Ni 2p 芯能级的光电子谱对比,显示 Ir 与 Ta 发生方向相反的显著化学位移,而 Ni 保持近元素态,表明明显的 Ir–Ta 电荷转移。(b) 金属玻璃和单质组分的近费米能量电子态。(c) Ir–Ta 电荷转移形成的局域网络结构示意图,显示 Ir–Ta 极性金属–金属键可能构筑类似多面体簇的结构框架,为 Ir–Ni–Ta–(B) 的高玻璃形成能力提供微观基础。